반도체 핵심기술 중국에 빼돌린 전·현직 대기업 직원들 기소

대전지검 전경. 〈한겨레〉 자료사진

우리나라 기업의 반도체 핵심기술을 중국에 유출한 혐의로 국내 대기업·중견기업 전·현직 직원들이 재판에 넘겨졌다.

대전지검과 특허청 기술디자인특별사법경찰은 반도체 웨이퍼 연마(CMP) 관련 기술을 중국에 유출한 혐의(산업기술보호법 등 위반)로 ㄱ(55)씨 등 3명을 구속 기소하고, 다른 3명을 불구속 기소했다고 26일 밝혔다. 국내 3개 대기업·중견기업 전·현직 직원인 이들은 컴퓨터·업무용 휴대전화로 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼(반도체를 만드는 바탕이 되는 얇은 판) 연마 공정도 등 회사 기밀자료를 열람하면서 개인 휴대전화로 사진 촬영하는 수법 등으로 유출한 혐의를 받는다. 유출된 자료에는 반도체 웨이퍼 연마제와 연마패드 관련 첨단기술·영업비밀을 비롯해 반도체 연마공정 관련 국가핵심기술까지 포함된 것으로 알려졌다.

주범인 ㄱ씨는 2018년 임원 승진에 탈락하자 2019년 6월 중국 업체와 반도체 웨이퍼 연마제 제조사업을 동업하기로 약정한 뒤 회사에 계속 근무하면서 메신저 등으로 중국 내 연마제 생산설비 구축·사업을 관리했고, 다른 회사 연구원인 ㄴ(52·구속)씨와 ㄷ(42·구속)씨, ㄹ(35·불구속)씨를 스카우트해 2019년 9월부터 중국 업체에 각각 부사장·팀장·팀원급으로 이직시켰다. ㄱ씨도 2020년 5월 사장급으로 이직해 중국 회사에서 근무했다.

특허청 기술디자인특별사법경찰은 지난해 3월 국정원으로부터 중국 업체로 이직한 연구원 ㄴ·ㄷ씨에 대한 첩보를 받아 수사에 착수했고, 압수수색과 증거물 분석 등을 통해 공범의 존재를 확인한 뒤 지난해 11월 검찰에 송치했다.

피해 기업 중 규모가 가장 작은 회사의 경우 이번 기술유출로 1천억원 이상의 경제적 피해가 발생한 것으로 파악됐다. 유출 자료로 중국에서 본격적인 사업을 진행하기 전 ㄱ씨가 구속되면서 추가 피해를 차단할 수 있었다고 검찰과 특허청은 설명했다.

검찰 관계자는 “우리나라가 보유한 세계적인 수준의 반도체 핵심기술을 해외로 유출한 사안”이라며 “검찰은 특허청·국정원 등과 긴밀히 협력해 창의적인 기술개발 의욕을 저해하고 국가 핵심 경쟁력인 산업기술을 도둑질하려는 범죄에 엄정 대응할 것”이라고 말했다.

최예린 기자 [e-mail]