미국 반도체 공장 환경규제는 어떤 수준인가?

환경청, 대기오염물질 188가지 배출 감시
버몬트주, IBM ‘폐수’ 23가지 날마다 측정

미국의 반도체 공장들에 적용되는 대기·수질오염 물질관리 기준은 각 공장들의 위치와 배출하는 오염물질의 양 등에 따라서 허가할 때부터 각기 다르게 설정된다는 점에서 한국과 크게 다르다.

미국 환경청(EPA)이 정한 반도체 제조시설의 유해대기오염물질 국가배출기준(NESHAP)을 보면 미국에 있는 반도체 제조시설들은 모두 188가지 유해대기오염물질 가운데 유기성 오염물질은 각 공정에서 총 질량을 98% 이상 줄이거나, 농도를 20ppm 이하를 유지하며 배출하도록 의무화돼 있다. 또 무기성 오염물질은 총 질량을 95% 이상 줄이거나, 0.42ppm 이하의 농도로 내보내야 한다. 먼지와 황산화물 등 단 4가지만 대기오염 물질로 규제되는 한국의 반도체 공장과 비교할 수 없을 정도로 강력한 규제인 셈이다.

수질오염에 대한 규제도 마찬가지다. 미국 환경청 웹사이트에 공개돼 있는 버몬트주 아이비엠 반도체 공장의 폐수배출허가(허가번호 3-1295) 서류를 보면, 중금속을 포함한 29가지 측정항목에 대해 일일 최대 배출량, 월간 평균 배출량과 각 항목별 측정주기까지 하나하나 명시돼 있다.

특히 아이비엠 공장의 위치가 상수원과는 관련이 없는데도, 클로로포름과 트리클로로에틸렌 등 30가지 독성물질은 별도로 3개월에 한번씩 측정하고, 그 물질들의 배출량을 모두 더한 값이 일일 최대 1.37㎎/ℓ를 넘지 않게 관리하도록 하고 있는 점이 주목된다.

이처럼 미국 반도체 공장들이 받고 있는 환경규제와 비교하면, 규제물질 항목이 절대적으로 적을 뿐 아니라 대부분 자율점검업소로 분류돼 반년에 1번 이상만 자가 측정하면 되는 한국의 반도체 공장들에 대한 환경규제는 규제라고 하기도 어려울 정도다.

염형철 환경연합 활동처장은 “미국 수준의 환경기준을 적용한다면 지금 논란이 되고 있는 이천의 하이닉스반도체 공장은 가동이 불가능할 것”이라며 “당분간 현행 입지규제를 유지하면서 미국처럼 개별물질에 대한 배출규제로 전환하기 위한 노력을 환경부가 서둘러야 한다”고 말했다.

김정수 기자 [e-mail]